专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]补偿光学系统的调整方法和补偿光学系统-CN201380029623.5有效
  • 黄洪欣 - 浜松光子学株式会社
  • 2013-04-01 - 2017-12-19 - G02F1/01
  • 本发明通过包括第一步骤~第四步骤的方法,以短时间且高精度地修正波阵面传感器的相位分布与波阵面调制元件的补偿用的相位图案的位置偏移,其中,第一步骤,使奇点生成图案显示在波阵面调制元件(12)中;第二步骤,在传感器(11)中测量调整用波阵面形状,该调整用波阵面形状为由奇点生成图案调制的光像入射到波阵面传感器(11)时的调整用波阵面形状;第三步骤,由传感器(11)中的测量结果,检测调整用波阵面形状中的奇点的位置;第四步骤,基于奇点的位置的位置偏移,调整在波阵面传感器(11)中测量的波阵面形状与在波阵面调制元件(12)中表示的补偿用的图案的位置偏移。
  • 补偿光学系统调整方法
  • [发明专利]观察装置-CN200980105377.0有效
  • 黄洪欣;井上卓 - 浜松光子学株式会社
  • 2009-01-13 - 2011-01-12 - G02B21/18
  • 观察装置(1)具备光源部(10)、二轴扫描系统(20)、波阵面调制部(30)、光分支部(40)、光检测部(50)、波阵面检测部(60)以及控制部(70)等。波阵面调制部(30)呈现补偿输入光的像差的补偿用相位图形,并且呈现将输入光分支成第一及第二光的分支用相位图形。波阵面检测部(60)接收所输入的光,检测该光的波阵面。在包括由波阵面检测部(60)对光的波阵面变形的检测、基于该检测结果由控制部(70)对相位图形的调整、由波阵面调制部(30)对相位图形的呈现在内的循环处理中,用于进行波阵面像差补偿的补偿用相位图形被反馈控制
  • 观察装置
  • [发明专利]接触透镜优化器-CN201380019590.6无效
  • 基思·P·汤普森;乔斯·R·加西亚 - 迪吉塔尔视觉有限责任公司
  • 2013-02-13 - 2015-03-25 - A61B3/10
  • 公开了视力测试方法和装置,该方法包括:测量由接触透镜施加的光的波阵面的调节,确定对于模拟戴在患者眼睛上的透镜的光学属性所必须的波阵面调节,产生通过患者可观察到的静态或者动态图像,调节远离患者的图像的波阵面来获得模拟戴在患者眼睛上的透镜的光学性能所必须的波阵面,并且将波阵面中继到患者眼睛附近、上或内的平面。该装置包括用来测量接触透镜施加的光的波阵面的调节的设备,确定对于模拟戴在患者眼睛上的透镜的光学属性所必须的波阵面调节的设备,生成通过患者可观察的静态或者动态图像的设备,调节远离患者的图像的波阵面来获得模拟戴在患者眼睛上的透镜的光学属性所必须的波阵面的设备,以及将波阵面中继到患者眼睛附近、上或内的平面的设备。
  • 接触透镜优化
  • [发明专利]信息装置和光学拾波器-CN200410011849.5无效
  • 虫鹿由浩;梶野修 - 松下电器产业株式会社
  • 2004-09-22 - 2005-03-30 - G11B7/12
  • 一种信息装置,用光束对光盘写入数据和/或从光盘读出数据,包括:生成所述光束的光源;把所述光束汇聚到光盘上的物镜;检测光束的波阵面波阵面传感器;检测物镜的光轴对光束光轴的位置偏移量的透镜移位检测机构;把局部修正光束的波阵面的修正要素排列为二维阵列状,各修正要素彼此独立驱动的波阵面修正机构;根据波阵面传感器的输出,进行光束的截面的各坐标位置和光束的波阵面相位的关联的波阵面演算机构;根据透镜移位检测机构的输出,变更坐标位置和波阵面相位的关联的透镜移位修正演算机构根据本发明不需要专用构件,能够以高精度进行减少透镜移位的影响的波阵面修正。
  • 信息装置光学拾波器
  • [发明专利]用于计算深度切片的定量微分干涉差(DIC)设备-CN201080005097.5无效
  • 崔喜泉;杨昌辉 - 加州理工学院
  • 2010-01-21 - 2011-12-21 - G02B21/14
  • 本发明的实施方式涉及使用具有波阵面传感器的定量微分干涉差设备来计算物体的深度切片的方法,所述波阵面传感器具有一个或多个结构光圈、光探测器以及位于结构光圈和光探测器之间的透明层。所述方法还基于光来测量图像波阵面的振幅并测量在图像波阵面的两个正交方向上的相位梯度。所述方法可然后使用振幅和相位梯度来重构图像波阵面。所述方法可然后将重构的波阵面传播到在第一深度处与物体相交的第一平面。在一个实施方式中,所述方法将重构的波阵面传播到另外的平面并基于所传播的波阵面生成三维图像。
  • 用于计算深度切片定量微分干涉dic设备
  • [发明专利]可变波阵面大小-CN201880006415.6有效
  • 迈克尔·J·曼托尔;布莱恩·D·恩贝林;马克·福勒 - 超威半导体公司
  • 2018-02-21 - 2023-10-13 - G06F9/30
  • 公开了用于在处理器上处理可变波阵面大小的系统、设备和方法。在一个实施方案中,处理器包括至少调度器、高速缓存和多个执行单元。当在第一模式下操作时,所述处理器在继续到着色器程序的下一指令之前在波阵面的多个部分执行相同的指令。当在第二模式下操作时,所述处理器在波阵面的第一部分执行一组指令。在所述第二模式中,当所述处理器在所述波阵面的所述第一部分完成该组指令的执行时,所述处理器在所述波阵面的第二部分执行该组指令,依此类推,直到所述波阵面的所有部分都已经被处理。
  • 可变波阵面大小

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